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掃描電鏡中的電子束對樣品的影響和調節方法

更新時(shí)間:2024-05-09    瀏覽量:366
 掃描電鏡中的電子束對樣品有幾方面的影響:

1. 表面充電效應:您已經(jīng)正確地指出了使用導電性樣品支撐或涂層,以及在樣品表面鍍覆導電材料可以減少表面充電效應。此外,還可以通過(guò)調整掃描電鏡的工作模式(如使用環(huán)境掃描電子顯微鏡,它允許在較高壓力下工作,從而減少充電效應)來(lái)減輕這一問(wèn)題。

2. 樣品損傷:降低電子束的能量和減少暴露時(shí)間確實(shí)是減少樣品損傷的有效方法。此外,還可以通過(guò)優(yōu)化掃描模式(例如,使用快速掃描和慢速采集的組合)來(lái)減少樣品受到的輻射劑量。

3. 放射性偽影:您提到的使用低加速電壓和適當的檢測器是正確的。還可以通過(guò)能量色散X射線(xiàn)光譜(EDS)分析來(lái)區分真正的X射線(xiàn)信號和偽影,以及通過(guò)使用背散射電子衍射(EBSD)技術(shù)來(lái)獲得晶體結構信息,這有助于識別和排除偽影。

4. 散射效應:使用較低的電子束能量和更小的束直徑是減少散射效應的有效方法。此外,還可以通過(guò)優(yōu)化樣品的形狀和大小,例如制作更薄的切片或者使用聚焦離子束(FIB)技術(shù)來(lái)制備樣品,以減少電子束在樣品中的散射。

5. 綜合調節方法:在實(shí)際操作中,可能需要綜合考慮上述各種因素,并根據樣品的特性和成像目標進(jìn)行優(yōu)化。例如,對于不導電的生物樣品,可能需要進(jìn)行金屬涂覆;而對于需要觀(guān)察微觀(guān)結構的材料科學(xué)樣品,則可能需要使用FIB制備薄片。

為了調節電子束對樣品的影響,通常需要根據具體的樣品類(lèi)型和成像要求采取相應的措施。這可能涉及調整電子束的能量、電流和聚焦,選擇合適的檢測器和樣品準備方法,以及在成像過(guò)程中對樣品進(jìn)行實(shí)時(shí)監控和調整。

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安徽澤攸科技有限公司是一家具有自主知識產(chǎn)權的科學(xué)儀器公司, 自20世紀90年代開(kāi)始投入電鏡及相關(guān)附件研發(fā)以來(lái),研發(fā)團隊一直致力于為納米科學(xué)研究提供優(yōu)秀的儀器。目前,公司有包括PicoFemto系列原位TEM測量系統、原位SEM測量系統、ZEM系列臺式掃描電鏡、JS系列臺階儀、納米位移臺、二維材料轉移臺、探針臺及低溫系統、光柵尺等在內的多個(gè)產(chǎn)品線(xiàn)。

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